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武汉京东方请求一种彩膜基板等专利处理TFT‑LCD纯白色亮度下透过率较低的问题

  金融界2025年1月15日音讯,国家知识产权局信息数据显现,武汉京东方光电科技有限公司请求一项名为“一种彩膜基板、显现面板、显现装置及制备办法”的专利,揭露号CN 119291958 A,请求日期为2024年11月。

  专利摘要显现,本请求揭露一种彩膜基板、显现面板、显现装置及制备办法,触及显现技术领域,可以处理TFT‑LCD纯白色亮度下的透过率较低的问题。彩膜基板包含衬底基板;滤光层,滤光层设置于衬底基板的一侧,滤光层包含遮光结构、光学结构和多种色彩的滤光膜,光学结构设置于遮光结构远离衬底基板的一侧,遮光结构在衬底基板上的正投影与光学结构在衬底基板上的正投影至少部分交叠,滤光膜设置于相邻的所述遮光结构之间;覆盖层设置于滤光层远离衬底基板的一侧;其间,光学结构的折射率小于覆盖层的折射率。

  天眼查资料显现,武汉京东方光电科技有限公司,成立于2017年,坐落武汉市,是一家以从事计算机、通讯和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册本钱2600000万人民币,实缴本钱2600000万人民币。经过天眼查大数据分析,武汉京东方光电科技有限公司参加招投标项目452次,专利信息246条,此外企业还具有行政许可509个。

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